Szef Intela: Chiny nie są daleko w tyle w produkcji chipów mimo ograniczeń w dostępie do EUV

Lead: Dyrektor generalny Intela Lip-Bu Tan stwierdził, że Chiny nie są obecnie znacząco opóźnione względem Stanów Zjednoczonych w dziedzinie produkcji chipów. Jego wypowiedź padła w kontekście amerykańskich restrykcji, które utrudniają chińskim firmom zakup zaawansowanych maszyn EUV wykorzystywanych przy wytwarzaniu najnowocześniejszych układów scalonych.

Ocena szefa Intela w rozmowie o rynku półprzewodników

Lip-Bu Tan przedstawił swoją opinię w wywiadzie dla Nikkei Asia. Rozmowa dotyczyła m.in. sytuacji branży półprzewodników w Stanach Zjednoczonych i Chinach, a także działań Intela związanych z restrukturyzacją oraz rozwojem działalności foundry, czyli produkcji układów na zlecenie.

Szef Intela podkreślił, że firmy działające w USA i Chinach mają różne mocne i słabe strony. Zaznaczył również, że o sukcesie przedsiębiorstw mają decydować przede wszystkim produkty najlepiej odpowiadające potrzebom klientów oraz zastosowaniom biznesowym.

Chiny a dostęp do technologii EUV

Jednym z kluczowych tematów pozostaje dostęp Chin do maszyn litograficznych EUV. Amerykańskie sankcje ograniczają możliwość zakupu takich urządzeń przez chińskie przedsiębiorstwa. Technologia EUV ma duże znaczenie dla dalszej miniaturyzacji układów, poprawy ich wydajności oraz efektywności energetycznej.

Zapytany, czy Chiny mogą dogonić USA w zaawansowanej produkcji chipów w perspektywie pięciu do dziesięciu lat, Tan odpowiedział krótko, że jego zdaniem obecnie nie są one tak daleko w tyle.

Intel chce rozwijać biznes foundry

W wywiadzie Tan odniósł się także do planów Intela związanych z budową silniejszej pozycji w produkcji kontraktowej. Firma chce rozwijać działalność foundry i konkurować na rynku, na którym dominującym graczem pozostaje tajwański TSMC, największy na świecie producent chipów na zlecenie.

Szef Intela zaznaczył jednak, że przekształcenie tego segmentu w trwałe źródło wzrostu wymaga cierpliwości i konsekwentnego działania.

Najważniejsze elementy wypowiedzi

• Chiny nie są znacząco opóźnione w ocenie Lip-Bu Tana, mimo ograniczeń w dostępie do EUV.
• Sankcje USA nadal utrudniają chińskim firmom zakup najbardziej zaawansowanych maszyn litograficznych.
• Intel rozwija działalność foundry i chce zwiększać swoją rolę w produkcji układów na zlecenie.
• Potrzeby klientów mają według Tana przesądzać o przewadze poszczególnych firm na rynku.

Chińskie prace nad źródłem EUV

W tle wypowiedzi szefa Intela pojawiły się także doniesienia o chińskiej firmie Landau, która zaprezentowała prototyp źródła światła EUV. Według podanych informacji urządzenie ma deklarowany czas pracy wynoszący 100 godzin oraz moc wyjściową 15 W.

Dla porównania, maszyna ASML NXE:3400B, przeznaczona do produkcji wielkoseryjnej, była dostarczana ze źródłami o mocy 150 W, z możliwością modernizacji do 250 W. Wysoka moc źródła ma znaczenie dla opłacalności i skali produkcji, natomiast w przypadku prototypu Landau uwagę zwrócił przede wszystkim deklarowany czas pracy.

Technologia EUV jest wyjątkowo złożona, ponieważ wymaga precyzyjnego generowania promieniowania poprzez oddziaływanie na krople cyny z bardzo dużą częstotliwością. To jeden z powodów, dla których rozwój własnych rozwiązań w tym obszarze pozostaje dużym wyzwaniem technologicznym.